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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:CCD火花直讀光譜儀CX-9000

  • 產(chǎn)品型號:
  • 產(chǎn)品廠商:創(chuàng)想
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簡單介紹:
CCD火花直讀光譜儀CX-9000廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制、爐前化驗(yàn)、中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)。CX-9000有色金屬光譜分析儀是引進(jìn)歐洲技術(shù)、采用國際公認(rèn)的先進(jìn)CCD直讀光譜儀技術(shù)開發(fā)的專門針對有色金屬材料分析的產(chǎn)品。CCD火花直讀光譜儀CX-9000可測定各種有色金屬,全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素。鋁基,銅基,鋅基有色金屬光譜分析儀高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性、高性價比。
詳情介紹:

CCD火花直讀光譜儀CX-9000

CCD火花直讀光譜儀CX-9000領(lǐng)域:

CX-9000有色金屬光譜分析儀是引進(jìn)歐洲技術(shù)、采用國際公認(rèn)的先進(jìn)CCD直讀光譜儀技術(shù)開發(fā)的專門針對有色金屬材料分析的產(chǎn)品。該產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制、爐前化驗(yàn)、中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)。CX-9000有色金屬光譜分析儀體積小、穩(wěn)定性好、檢測限低、分析速度快、運(yùn)行成本低、操作維護(hù)方便,是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。

CCD火花直讀光譜儀CX-9000主要特點(diǎn):

1、**代CCD全譜光譜儀制造技術(shù)通道不受限制;

2、升級多基體方便,無須變動增加硬件;

3、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性,同一樣品不同的時間段分析,可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性;

4、體積小、重量輕, 移動安裝方便;

5、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性;

6、性價比高;

CCD火花直讀光譜儀CX-9000其它特點(diǎn):

1、可測定各種有色金屬的各種元素,適用于多種金屬基體,如:鋁基、銅基、鋅基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素;

2、分析速度快捷,20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃時間及標(biāo)線,使儀器用短的時間達(dá)到優(yōu)的分析效果;

3、光學(xué)系統(tǒng)采用恒溫光室,激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入光室,實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限,測定結(jié)果準(zhǔn)確,重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性優(yōu)良;

4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計,體積小、重量輕;

5、自動光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線,與原存儲線進(jìn)行對比,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定;

6、開放式的電極架設(shè)計,可以調(diào)整的樣品夾,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;

7、工作曲線采用國際標(biāo)樣,預(yù)做工作曲線,可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍,每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成,自動扣除干擾;

8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料 ;

9、銅火花臺底座,提高散熱性及堅(jiān)固性能;

10、合理的氬氣氣路設(shè)計,使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短,為用戶節(jié)省氬氣,氬氣消耗不到普通光譜儀的一半;

11、采用鎢材料電極,電極使用壽命更長,并設(shè)計了電極自吹掃功能,清潔電極更加容易;

12、高性能DSPARM處理器,具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實(shí)時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀況;

13、與計算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接,抗干擾性能好,外部計算機(jī)升級與儀器配置無關(guān),使儀器具有更好的適用性;

14、核心器件全部原裝進(jìn)口,保證了儀器的優(yōu)良品質(zhì)。

CCD火花直讀光譜儀CX-9000配置參數(shù):

光學(xué)系統(tǒng)

光學(xué)結(jié)構(gòu)

平場型光學(xué)系統(tǒng)

光室溫度

自動控制恒溫:35±0.5

波長范圍

200-500nm

光柵焦距

350 mm

光譜寬度

25.4mm

探測器

高性能線陣CCD

激發(fā)臺

  

沖氬式

氬氣流量

激發(fā)時3-5L/min 待機(jī)時:無須待機(jī)流量

  

鎢材噴射電極技術(shù)

  

點(diǎn)擊自吹掃功能

補(bǔ)  

熱變形自補(bǔ)償設(shè)計

分析間隙

樣品臺分析間隙:4mm

激發(fā)光源

  

HEPS數(shù)字化固態(tài)光源

  

100-1000Hz

放電電流

1-80A

特殊技術(shù)

放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計

預(yù)  

高能預(yù)燃技術(shù)

數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)

處理器

優(yōu)異ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理

   

基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸

電源與環(huán)境要求

  

220VAC 50Hz

  

分析時*大700W,待機(jī)狀態(tài)40W

工作溫度

10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5/h

工作濕度

20-80%

尺寸與重量

主機(jī)尺寸

500*450*300 mm

     

30Kg

 

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