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- 制樣及前處理設(shè)備
- 配件耗材及配套產(chǎn)品
產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹：
蔡司電鏡包括不同型號(hào)的鎢燈絲掃描電鏡和場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡，可滿足不同類型應(yīng)用的需求。蔡司場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡Sigma系列可以搭載多種探測(cè)器，以滿足不同應(yīng)用需求：顆粒物、表面結(jié)構(gòu)、納米結(jié)構(gòu)、薄膜、涂層及多層膜等樣品成像。Sigma 300掃描電鏡性價(jià)比高。Sigma 500蔡司掃描電子顯微鏡裝配有背散射幾何探測(cè)器，可快速方便地實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)分析。
詳情介紹：
利用成熟的 Gemini 電子光學(xué)元件，將佳的分析性能與場(chǎng)發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合。多種探測(cè)器可選：用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像。Sigma 半自動(dòng)的4步工作流程節(jié)省大量的時(shí)間：設(shè)置成像與分析步驟，提率。
Sigma 300 性價(jià)比高。Sigma 500 裝配有背散射幾何探測(cè)器，可快速方便地實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)分析。樣品均可獲得更精準(zhǔn)可重復(fù)的分析結(jié)果。
蔡司場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡Sigma系列特點(diǎn)：
?用于清晰成像的靈活探測(cè)
*利用探測(cè)術(shù)為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
*利用 in-lens 雙探測(cè)器獲取形貌和成份信息。
*利用新一代的二次探測(cè)器，獲取高達(dá)50%的信號(hào)圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 的 C2D 和 可變壓力探測(cè)器，在低真空環(huán)境下獲取高達(dá)85%對(duì)比度的銳利的圖像。
?自動(dòng)化加速工作流程
*4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環(huán)境中，從快速成像和節(jié)省培訓(xùn)先，先對(duì)樣品進(jìn)行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。
*先，先對(duì)樣品進(jìn)行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。
*接下來對(duì)樣品感興趣的區(qū)域進(jìn)行優(yōu)化并自動(dòng)采集圖像。后使用工作流程的后一步，將結(jié)果可視化。
?分析型顯微鏡
*將掃描電子顯微鏡與基本分析相結(jié)合：Sigma 的背散射幾何探測(cè)器大大提升了分析性能，特別是對(duì)電子束的樣品。
*在一半的檢測(cè)束流和兩倍的速度條件下獲取分析數(shù)據(jù)。
*獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結(jié)果。
Sigma 300 性價(jià)比高。Sigma 500 裝配有背散射幾何探測(cè)器，可快速方便地實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)分析。樣品均可獲得更精準(zhǔn)可重復(fù)的分析結(jié)果。
蔡司場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡Sigma系列特點(diǎn)：
?用于清晰成像的靈活探測(cè)
*利用探測(cè)術(shù)為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
*利用 in-lens 雙探測(cè)器獲取形貌和成份信息。
*利用新一代的二次探測(cè)器，獲取高達(dá)50%的信號(hào)圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 的 C2D 和 可變壓力探測(cè)器，在低真空環(huán)境下獲取高達(dá)85%對(duì)比度的銳利的圖像。
?自動(dòng)化加速工作流程
*4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環(huán)境中，從快速成像和節(jié)省培訓(xùn)先，先對(duì)樣品進(jìn)行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。
*先，先對(duì)樣品進(jìn)行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。
*接下來對(duì)樣品感興趣的區(qū)域進(jìn)行優(yōu)化并自動(dòng)采集圖像。后使用工作流程的后一步，將結(jié)果可視化。
?分析型顯微鏡
*將掃描電子顯微鏡與基本分析相結(jié)合：Sigma 的背散射幾何探測(cè)器大大提升了分析性能，特別是對(duì)電子束的樣品。
*在一半的檢測(cè)束流和兩倍的速度條件下獲取分析數(shù)據(jù)。
*獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結(jié)果。
